近日，IBM发表2nm芯片制造技术，称这是世界首创。IBM表示，技术可以使芯片速度比现今许多笔记本电脑及手机所使用的主流7纳米芯片提升45%，能源效率提高75%。比起当前最尖端的5纳米芯片，2纳米芯片的体积会更小、速度也会更快；目前5纳米芯片只用在苹果 iPhone 12等高端手机，而5纳米之后的下一个技术节点料为3纳米。

据了解，作为率先造出7nm（2015年）和5nm（2017年）芯片的厂商，IBM此次的2nm采用的是GAA（环绕栅极晶体管）技术，三层。这是第一次使用底介电隔离通道，它可以实现12 nm的栅长，其内部间隔是第二代干法设计，有助于纳米片的开发。这也是第一次使用EUV曝光FEOL部分过程。关于GAA晶体管技术，三星3nm、Intel 5nm以及台积电2nm均将首次采用。